槽式湿法刻蚀清洗设备(BC系列) -苏州智程半导体科技股份有限公司

槽式湿法刻蚀清洗设备(BC系列)

应用领域

RCA清洗，GATE清洗，氧化层清洗，湿法去胶

设备类型

Cassette- type &Cassetteless- type

晶圆尺寸

200mm

蚀刻速率均匀性(%) : <3%
颗粒控制：<10颗@ 200纳米, 裸硅
金属离子：<1E10 atoms/cm2

设备配置

产能(晶圆间距)：50片晶圆(25片晶圆/Cassette*2)/10mm
支持SMIF POD
支持化学液C.C.S.S,L.C.S.S
Marangoni dry
自动换液，补液
加热控制，浓度控制，流量控制，压力控制等
过温保护，漏液检知，分类排放
全面支持SECS/GEM通讯协议
支持Cassette 传输

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