产品简介
该系列应用在多个半导体领域。独立的模块化设计可以灵活配置,高通量缓冲模块和高速传输模块提高生产力。整合湿法化学刻蚀、清洁、去胶与干燥工艺,为客户提供有价值的创新型湿法化学解决方案,协助其迈向更高的工艺水平。
应用领域
晶圆级封装中去胶、常压助焊剂清洗、金属刻蚀等应用
晶圆尺寸
200~300mm
支持翘曲作业,可兼容翘曲度±5MM
设备配置
WPH≥70
2 FOUP
自动换液,补液
加热控制,浓度控制,流量控制,压力控制等
过温保护,漏液检知,分类排放
全面支持SECS/GEM通讯协议