产品简介
该系列可用于薄片晶圆背面清洗或者湿法刻蚀工艺, 同时通过伯努利夹盘为晶圆背面提供氮气保护。 该设备可广泛应用于碳化硅及硅的功率器件等领域。
应用领域
运用硅及碳化硅功率器件应用、硅基工艺器件
工艺应用
适用于背面减薄工艺的腐蚀和背面清洗,薄片清洗
高温磷酸腐蚀工艺
设备配置
● 2-8腔体(可定制)
● 2-4 Open Cassette/Smif/Loadport
● 可配置药液:腐蚀液,SC1+兆声,DHF, DICO2,N2配置可供选择
● 支持化学液CCSS,LCSS
● 加热控制,浓度控制,流量控制,压力控制等
● 酸,碱,有机液排风分离
● 支持化学液回收
● 过温保护,漏液检知,分类排放
● 全面支持SECS/GEM通讯协议